In der Mikrosystemtechnik gibt es bis heute keine befriedigende Lösung für die Vermessung von feinen LIGA- oder Silizium-Strukturen. Kennzeichnend sind unter anderem hohe Aspektverhältnisse von 1:20 und Rauheitsmessungen an sehr kleinen Kanälen. Die üblichen Profilometer eignen sich für diese Aufgaben wenig. Einem Duisburger Unternehmen gelang es kürzlich, hervorragende dreidimensionale Strukturen geometrisch mit einem konfokalen Messprinzip sehr exakt zu erfassen. Von allen optischen Verfahren ist die konfokale Technik sicher die geeignetste Methode zur Erfassung von steilen Oberflächenstrukturen. Bisher ist es aber nicht gelungen, dieses Verfahren auf technische Oberflächen anzuwenden. Mit dem µSurf steht jetzt dem Messtechniker ein System zur Verfügung, das eine Fläche von 1,6 x 1,6 mm in weniger als 1 min mit einer Höhenauflösung bis zu 25 nm vermessen kann. Der Messbereich wird nur durch den minimalen Abstand der verwendeten Mikroskopobjektive begrenzt und kann einige mm betragen.
A QE 417
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