Angepasst an die Anforderungen der Wafer-inspektion hat Leica Microsystems die Digital-Mikroskopserie für industrielle Applikationen um zwei neue Stative mit 6×6″-Tischen aufgestockt. Die speziell für Auflichtanwendungen optimierten Digital-Mikroskope vereinen erstklassige Optik mit intuitiver Handhabung, abgestimmt auf die Körperkonstitution der Benutzer. Selbst für Einsteiger stellt die Bedienung der neuen Industriemikroskope keine Schwierigkeit dar. Für spezifische Anforderungen, die manuelle Inspektionen voraussetzen, bietet der Wetzlarer Optikhersteller das semiautomatisierte Leica DM4000 M mit manuellem Tisch. Dieses für die Anforderungen im Halbleiterbereich optimierte Gerät besticht durch seine minimale Stativgröße. Das vollautomatisierte Leica DM6000 M mit motorisiertem Tisch ist optional mit einer 6“-Waferladestation erhältlich und somit die ideale Systemlösung für die vollautomatische Defekterkennung. Beide Mikroskopiesysteme sind robust und solide gebaut und wurden speziell für den industriellen Einsatz konzipiert. Die bewährte automatische Intensitätsanpassung an den Lichtbedarf der Objektive erlaubt schnelles Umschalten zwischen Objektivvergrößerungen ohne den ansonsten notwendigen Intensitätsausgleich: Die idealen Voraussetzungen für durchweg hohen Durchsatz.
Leica Microsystems, Wetzlar
QE 527
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