Das von Surface Imaging Systems (S.I.S.) entwickelte einzigartige Messkonzept erlaubt den einfachen und schnellen Einsatz hochpräziser Oberflächenmesstechnik.
Das UltraObjective – ein kompaktes Rastersondenmikroskop – wird dazu an ein optisches Mikroskop wie ein konventionelles Objektiv adaptiert. Die Kombination ermöglicht es, Oberflächenstrukturen mit den optischen Mikroskopiemethoden zu selektieren und anschließend mit Nanometerauflösung mittels Rastersondentechnik zu charakterisieren.
Die kombinierte Messtechnik in Verbindung mit der neuen SPM-Steuerelektronik ScanControl C setzt einen neuen Standard in Präzision, vereinfachter Handhabung und deutlich verbesserter time-to-result Performance. Als Rastersondenmethoden stehen eine Vielzahl von Techniken zur Verfügung: Kontakt-, Nicht-Kontaktmodus, MFM, EFM, Elastizitätsmodus, Reibkraftmodus, die Anwendbarkeit in Flüssigkeiten etc.
Seit neuestem gibt es auch ein hochauflösendes, kombiniertes magnetooptisches SPM-Kerrmikroskop zur Analyse von Domänenstrukturen an. Damit werden das Auffinden und die Charakterisierung auch kleinster magnetischer Strukturen wesentlich vereinfacht.
A QE 510
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