Mit dem berührungslos messenden, optischen Profilometer Plu Neox von Sensofar präsentiert Schaefer Technologie ein Gerät, das Interferometrie, Konfokaltechnik und Auflichtmikroskopie in einem kompakten Messgerät vereint. Das 3D Messmikroskop mit neuester patentierter Displaytechnik gestattet den Wechsel zwischen den verschiedenen Messtechniken innerhalb weniger Sekunden, wodurch es möglich wird, innerhalb kürzester Zeit ein äußerst breites Spektrum unterschiedlichster Proben zu vermessen.
Das Neox wurde entwickelt, um eine schnelle, berührungslose Messung von Oberflächen mit unterschiedlichsten Beschaffenheiten im Mikro- und Nano-Bereich vorzunehmen. Das Einsatzgebiet reicht dabei von der Rauheitsmessung auf extrem glatten Oberflächen mit einer vertikalen Auflösung (sub-nanometer) im Interferometriebetrieb bis zur Vermessung extrem rauer, sehr schlecht reflektierender Oberflächen mit Flankenwinkeln von bis zu 70 Grad im Konfokalmodus. Durch den Einsatz sehr kurzwelliger blauer LEDs als Beleuchtungseinheit wird auch lateral die höchstmögliche optische Auflösung garantiert.
Das fortschrittliche Beleuchtungskonzept kommt dabei ohne jegliche bewegliche Bauteile im Messkopf aus und vermeidet daher die typischen Nachteile herkömmlicher konfokaler Laserscanning oder Nipkowdisk-basierter Systeme.
Das Mikroskop eignet sich für den Einsatz im Bereich Forschung und Entwicklung, in Labors zur Qualitätsinspektion und für kundenspezifische Lösungen, wie zur Qualitätskontrolle in der Produktionsumgebung.
Die wichtigsten Anwendungen sind:
- Messen von Oberflächentopologie, Oberflächentopographie, Rauhigkeit, Profil
- Sehr glatte Oberflächen mit Rauhigkeiten im Nanometer-Bereich
- Halbleiterstrukturen, MEMS, MOEMS, Solartechnologie
- Messen dünner, transparenter Schichten von einigen Nanometern bis einige zehn Mikrometer
- Linsenradien, asphärische Linsen
Schaefer Technologie, Langen www.schaefer-tec.com
Halle 7, Stand 7336
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