Das System Prove von Carl Zeiss hat den Thüringer Innovationspreis 2011 in der Kategorie Industrie & Material gewonnen. Der Preis wurde am 24. November im Rahmen des Innovationstages Thüringen in Erfurt von der Stiftung für Technologie, Innovation und Forschung Thüringen (STIFT) verliehen.
Das Metrologiesystem Prove, das in der Halbleitertechnik eingesetzt wird, vermisst Photomasken, um mögliche Positionsfehler von Strukturen zu minimieren. Die fehlerfreie Positionierung der Strukturen ist eine wesentliche Voraussetzung für das Funktionieren von Computerchips. Fast alle in größerer Stückzahl hergestellten Chips werden mit Hilfe eines photolithographischen Verfahrens hergestellt. Photomasken spielen dabei eine wesentliche Rolle, da sie das Chipdesign enthalten. Alle Positionen, Größen und Abstände von den im Design enthaltenen Strukturen sind in den Photomasken vordefiniert. Die Maske als wesentliches Element des Chipherstellungsprozesses muss deshalb höchsten Qualitätsansprüchen genügen.
Carl Zeiss Semiconductor Metrology Systems Division (SMS), die das Prove entwickelt, fertigt und vertreibt, hat bereits zum zweiten Mal den Thüringer Innovationspreis erhalten. 2007 gewann die SMS den Preis für das Metrologiesystem Phame, das hochauflösende Phasen- und Transmissionsmessungen auf Photomasken vornimmt.
Der Innovationspreis Thüringen wird in diesem Jahr zum 14. Mal für herausragende Innovationen verliehen und steht unter der Schirmherrschaft der Thüringer Ministerpräsidentin Christine Lieberknecht. Er wird in den Kategorien „Tradition mit Zukunft„, „Industrie & Material„, „Kommunikation & Medien„ sowie „Licht & Leben„ vergeben und ist für alle Kategorien in Summe mit einem Preisgeld von 100.000 Euro dotiert.
Carl Zeiss SMS, Jena
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