Effizienz und Durchlaufzeiten in Produktionsprozessen von Wafern verbessert FRT mit vollautomatisierten Anlagen zur metrologischen Wafervermessung. Eine neu entwickelte Software-Plattform ermöglicht die vollständige Automatisierung im Frontend- und Backendbereich. Durch passgenaue modulare Hardware können die Anlagen für unterschiedliche Wafergrößen und –formen sowie alle gängigen metrologischen Messaufgaben ausgelegt werden. Speziell zur Untersuchung von nicht-SEMI-konformen Wafern, wie aus dem MEMS-Bereich, steht nun eine umfassende Lösung bereit. Damit werden z.B. Pre- und Fine-Alignment, genau wie bei Standardwafern, nun direkt und vollautomatisch auf dem Messgerät durchgeführt. Für den Frontend-Bereich bietet FRT mit der MFE-Serie (Metrology for Front End) automatisierte Messtechnik, die über das SECS/GEM-Interface nahtlos in bestehende Produktionssteuerungssoftware eingebunden wird. Die Anlagen bestehen aus einem Minireinraum der Klasse 1, welcher mit bedarfsgerechter optischer Messtechnik und wahlweise AFM ausgestattet ist. Ein vollautomatisches Robotiksystem nimmt Wafer aus FOUP- und/oder SMIF-Wafercarriern entgegen und führt ein automatisches Alignment mit höchster Präzision für die anschließende Messung durch. Der hohe Automatisierungsgrad und die Qualität der metrologischen Messanlagen von FRT stellen kurze Durchlaufzeiten und jederzeit reproduzierbare Ergebnisse sicher.
Je nach Ausstattung untersuchen die neuen Messsysteme Wafer mittels einem oder mehrerer Sensoren auf Bow, Warp, TTV, Rauheit und Schichtdicke.
Fries Research & Technology FRT, Bergisch Gladbach
QE 521
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