In der Halbleiterindustrie muss die Inspektion, Prozesskontrolle und Fehleranalyse von Wafern schnell, sicher und ergonomisch sein. Mit den Inspektionsmikroskopen Leica DM8000 M und Leica DM12000 M bringt Leica Microsystems eine neue Produktlinie auf den Markt, die diese Anforderungen optimal erfüllt. Die neuen Instrumente sind wahlweise für die Inspektion von 8– oder 12-Zoll-Wafern erhältlich. Mit dem integrierten Makro-Modus bieten die Inspektionsmikroskope Leica DM8000 M und DM12000 M einen bis zu vier Mal größeren Überblick über die Probe als herkömmliche Übersichtsobjektive. So kann der gesamte Bereich schnell und sicher auf mögliche Defekte gescannt werden. Im Leica DM8000 M und DM12000 M ist die LED-Beleuchtung in das Stativ integriert. So wird der Airflow im Reinraum optimal um das Mikroskop geleitet, da Lampenhäuser komplett entfallen. Auch die optional erhältliche i-line UV Beleuchtung basiert auf LED-Technologie.
Leica Mikrosysteme, Wetzlar www.leica-microsystems.com
Halle 1 Stand 1115
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