Das LZH ist mit der Koordination eines neu gegründeten Forschungs-Netzwerks betraut worden, das anwendungsnahe Analyseverfahren für Extrem-Ultraviolett (EUV/XUV) Optiken und Komponenten entwickelt. Für die Optikcharakterisierung und folglich für die Entwicklung und die Qualitätssicherung neuer Produkte ist die Verfügbarkeit von anwendungsnahen Optikanalyse- verfahren notwendig. Extrem-Ultraviolett (EUV) ist der Spektralbereich der Lithografie von morgen für die Herstellung von Computer-Chips. Er grenzt an den Spektralbereich der weichen Röntgenstrahlung (XUV). Technisch interessant ist derzeit etwa der Bereich von 10 bis 20 nm (Zum Vergleich: Der Bereich des sichtbaren Lichtes und damit der klassischen Optik erstreckt sich von 380 bis 780 nm). Die heutige Lithografie für die Halbleiter-Schaltkreise ist bereits bis 193 nm ins Kurzwellige vorgedrungen. Während man sich bei 193 nm-Strahlung noch auf Optikkomponenten aus Quarzglas stützen konnte, erfordert das EUV völlig neue Materialien und Komponenten. Das Netzwerk setzt auf die Entwicklung praxisrelevanter Charakterisierungsverfahren. Durch die Verfügbarkeit industrienaher und kostengünstiger EUV/XUV-Spektrometer sollen vor allem kleine und mittlere Unternehmen (KMU) in die Lage versetzt werden, bei der Entwicklung neuer Produkte eigene Messgeräte einzusetzen, so dass auf Zeit raubende externe Messkampagnen verzichtet werden kann. So soll die Durchsetzungsfähigkeit von neuen, innovativen Produktideen aus KMU und letztlich deren Wettbewerbsfähigkeit unterstützt werden.
QE 507
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