Das Leistungsspektrum der Vision-Technologie PatMax von Cognex wurde durch neue Verfeinerungen der Algorithmen zur Lokalisation und Ausrichtung von Mustern erheblich angehoben. Diese neuen Weiterentwicklungen vereinfachen die Programmierung, reduzieren die Kosten für Ausstattung sowie Integration, und sie minimieren die manuellen Eingriffe des Bedienpersonals. Sie steigern den Durchsatz bei anspruchsvollen Anwendungen in der Herstellung von Halbleitern und elektronischen Bauteilen. Folgende PatMax Weiterentwicklungen sind jetzt auf den PC-basierten Bildverarbeitungssystemen von Cognex verfügbar: PatMax XLC (eXtremely Low Contrast): verfeinert die Fähigkeiten von PatMax bei der Auffindung von kaum sichtbaren Objekten oder Mustern in körnigen oder blassen Abbildungen. PatMax XLC verbessert die Ausrichtung von Wafern für Werkzeuge im Bereich hochgenauer Messtechnik. PatMax SA (Scene Alignment): bietet die Ausrichtung nach partieller Übereinstimmung, wobei das Gesamtmuster in einer Abbildung nicht mehr erforderlich ist, um genaue Ergebnisse zu erzielen. Dadurch, dass sich Teile oder Abschnitte des trainierten Modells auch außerhalb des Sichtfeldes befinden können, reduziert PatMax die manuellen Eingriffe des Bedienerpersonals, und steigert den Durchsatz bei Anwendungen wie z. B. bei Prüfstationen zur Aufspürung von Defekten.
QE 533
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